反应离子刻蚀机

仪器编号	2009021	规格型号	TRIONSIRUST2
生产制造商	TrionTechnology	产地国别	美国
收费标准	280元/层	启用日期	03/05/2011
设备存放地址	厦门湖里区港中路1694号万翔商务中心2号楼南楼3层
实验室管理员	周琦	预约电话	0592-2529611
对外共享规定	请提前预约，最长预约使用30天
仪器状态	正常	预约仪器	请先登录

TRION TECHNOLOGY SIRUS T2反应离子刻蚀机是一套桌面式等离子刻蚀系统，可用于介质以及其他要求氟基化学的薄膜刻蚀。SIRUS T2的内部程序中已经制定了蚀刻硅，二氧化硅，氮化硅，石英，聚酰亚胺，钽，钨，钛钨和其他材料所需要的基本控制，具有良好的选择性和刻蚀均匀性。

 

主要技术指标：

·       刻蚀基片规格：>200mm（8英寸）

·       反应电极规格：8英寸

·       反应腔体材料：SUS304不锈钢

·       反应室材料：镍合金

·       自动调谐射频发生器频率：13.56MHZ，功率600瓦

·       反应离子气体刻蚀均匀度：<5%（600W刻蚀）

·       四路单独的气体流量控制器，分别控制氮气、氧气、四氟化碳、六氟化硫

·       配备直掀式真空锁，便于破真空后快速样品取放

·       循环温度控制器

·       自动的压力调节